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CECAM/Psi-k - Simulation of chemistry-driven growth phenomena for metastable materials
Internationaler Workshop
Veranstaltungsdaten
08. November 2015 – 11. November 2015
Termin herunterladen (.ics)
Schloss Rauischholzhausen (bei Marburg)
Der CECAM/Psi-k Workshop - Simulation of chemistry-driven growth phenomena for metastable materials wird von CECAM, Psi-k/ESF, EU COST-action HERALD und vom Graduiertenkolleg 1782 "Funktionalisierung von Halbleitern" unterstützt.
Nähere Informationen zu CECAM finden Sie unter diesem Link.
Veranstalter
Ralf Tonner, Simon Elliott, Karsten Reuter, Jörg Neugebauer
Kontakt
Dr. Ralf Tonner