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Nanostrukturierung

Oberflächenbearbeitung

Die Erzeugung von Strukturen auf Oberflächen wird in der Regel mit Hilfe der Lithographie, also unter Nutzung einer einmal herzustellenden Maske, durchgeführt. Wir beschäftigen uns ausschließlich mit Strukturen, die mittels Laser direkt geschrieben werden können und daher keine Masken benötigen.

Die erzielbaren Strukturbreiten sind durch die Wellenlänge des verwendeten Lichts limitiert. In einem kombinierten photo-thermischen Prozess können jedoch feinere Strukturen erzeugt werden, und zwar dadurch, dass nach der photochemischen Strukturierung ein thermischer Schrumpfungsprozess folgt, der zu Linienbreiten führt, die weit unter der Wellenlänge liegen. In dem gezeigten Beispiel werden Primärstrukturbreiten von ca. 250 nm erzeugt. Durch die Temperung erhält man dann Linienbreiten unter 50 nm, ein Wert der nur mit den besten aktuellen lithographischen Methoden erreicht wird.

Literatur:
H.-C. Kim, H. Reinhardt, P. Hillebrecht, N. Hampp
Photochemical Preparation of Sub-Wavelength Heterogeneous Laser-Induced Periodic Surface Structures.
Adv. Mater., 24 (2012) 1994-1998.