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CECAM/Psi-k - Simulation of chemistry-driven growth phenomena for metastable materials

Internationaler Workshop

Veranstaltungsdaten

08. November 2015 – 11. November 2015
Termin herunterladen (.ics)

Schloss Rauischholzhausen (bei Marburg)

Der CECAM/Psi-k Workshop - Simulation of chemistry-driven growth phenomena for metastable materials wird von CECAM, Psi-k/ESF, EU COST-action HERALD und vom Graduiertenkolleg 1782 "Funktionalisierung von Halbleitern" unterstützt.

Nähere Informationen zu CECAM finden Sie unter diesem Link.

Veranstalter

Ralf Tonner, Simon Elliott, Karsten Reuter, Jörg Neugebauer

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