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CO2 Laserquelle für die EUV Lithografie
Dr. Ajanth Velauthapillai, Program Manager Lasersytems, TRUMPF Lasersystems GmbH
Veranstaltungsdaten
26. Juni 2017 16:15
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Fachbereich Physik, Renthof 6, Seminarraum 00014
Veranstalter
Fachschaft Physik, GRK 1782
Kontakt
Dr. Arash Rahimi-Iman